雙偏心半球閥是為解決“氣-固”或“液-固”兩相混流介質(zhì)輸送中帶有沉淀、結(jié)垢和結(jié)晶析出介質(zhì)的技術(shù)難題而研制開(kāi)發(fā)的新型偏心半球閥。 因?yàn)樵诔Ｓ瞄y門(mén)使用過(guò)程中，閥門(mén)的磨損和結(jié)垢是影響其使用壽命的主要因素，雙偏心式半球閥以其獨(dú)有的啟閉方式與偏心結(jié)構(gòu)、硬密封的特點(diǎn)，關(guān)閉切除結(jié)垢， 刮凈密封面上的附著物，從而順利地實(shí)現(xiàn)開(kāi)啟與關(guān)閉，磨損自行補(bǔ)償，開(kāi)辟了解決常用閥門(mén)存在問(wèn)題的新途徑。但由于此種閥的核心部件—閥芯，其密封面堆焊了 耐磨合金，在研磨成一定要求的球面時(shí)采用的加工手段是手工研磨，制約了產(chǎn)品質(zhì)量的提高和產(chǎn)量的批量化。為此，本文對(duì)閥芯加工中的研磨工藝進(jìn)行了分析研究， 設(shè)計(jì)出一種新穎可靠的自動(dòng)研磨機(jī)構(gòu)，滿(mǎn)足了生產(chǎn)要求。

研磨實(shí)驗(yàn)表明：平面量塊及圓柱量規(guī)研磨時(shí)，當(dāng)其軌跡為正弦波時(shí)，其幾何精度、表面粗糙度很高。通過(guò)對(duì)半球閥閥芯研磨過(guò)程和研磨機(jī)理的研究，在球面上進(jìn)行模擬操作實(shí)驗(yàn)證明：軌跡若為正弦波軌跡時(shí)，其幾何精度、表面粗糙度亦可以達(dá)到較高的水平；研磨速度(0.33～1.54mPmin)增大使研磨效率提高；但當(dāng)速度過(guò)高(0.5～100mPmin)時(shí)，由于離心力作用，使研磨劑甩出工作區(qū)，研磨運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性降低，研具磨損加快，從而降低研磨加工精度，在一定范圍內(nèi)(0.1～0.3MPa)增 加研磨壓力可提高研磨效率。當(dāng)壓力大到一定值時(shí)，由于磨粒破碎及研磨接觸面積增加，實(shí)際接觸點(diǎn)的接觸壓力不成正比增加，研磨效率提高并不明顯；另一方 面，對(duì)于同樣的磨粒，研磨壓力減小對(duì)提高表面粗糙度有利。一般粗研多用較低速、較高壓力；精研多用低速、較低壓力。為此，在設(shè)計(jì)偏心球面研磨機(jī)構(gòu)時(shí)，著 重考慮了正弦波軌跡的實(shí)現(xiàn)、研磨速度和研磨壓力的控制。

研磨機(jī)的運(yùn)動(dòng)原理如圖1所示，n1是研具的轉(zhuǎn)速，n2是閥芯的轉(zhuǎn)速，兩者方向相反同軸(z軸)，另外，閥芯繞y軸擺動(dòng)，往復(fù)轉(zhuǎn)速為n3。在水平面上，閥芯球面上任一磨粒在水平面(xy平面)內(nèi)的合速度為(v1-v2)， 如圖2所示。在xz平面內(nèi)，設(shè)磨粒的速度為v3，則磨粒的實(shí)際速度v=v1-v2+v3。當(dāng)擺動(dòng)按正弦波規(guī)律運(yùn)動(dòng)，v1、v2與之合理匹配時(shí)，其磨粒軌 跡類(lèi)似于振動(dòng)衰減的正弦波，如圖2所示。在n點(diǎn)處，其速度為v1+v2，v3=0。由圖2可看出，若閥芯只作往復(fù)擺動(dòng)，在m點(diǎn)與n點(diǎn)處的研磨軌跡就有很 大差別，其去除材料量、磨損、磨削等產(chǎn)生嚴(yán)重不均勻，閥芯的球面度、表面粗糙度就很難達(dá)到均勻一致，不能滿(mǎn)足要求，為此應(yīng)使閥芯有一轉(zhuǎn)速n2，不斷連續(xù) 變動(dòng)閥芯位置，使整個(gè)球面的研磨、磨損等均勻一致。